417 03 417 05

 

Лаборатория создана в 1963 году в связи с организацией в ИНХ СО АН СССР отдела химии полупроводников. Первоначальное название – лаборатория полупроводниковых пленок и защитных покрытий. В состав лаборатории вошли сотрудники трех подразделений, заведующим был назначен к.х.н. Ф.А. Кузнецов. В 1971 году после выделения из ее состава группы диэлектрических слоев лаборатория получила нынешнее название лаборатории эпитаксиальных слоев. За 46 лет существования из лаборатории выделились три лаборатории (лаборатории Белого В.И., Стенина Ю.Г. и Окотруба А.В.) и две группы (Васильева Я.В. и Баковца В.В.). В 2008 году в состав лаборатории вошла часть лаборатории диэлектрических слоев. В настоящее время общая численность сотрудников составляет 22 человека. Возглавляет лабораторию к.х.н. М.Л. Косинова.

 Научные задачи  Прикладные задачи   Партнеры  Оборудование  Видео 

Заведующий лабораторией к.х.н. КОСИНОВА
Марина Леонидовна
57-94 330-96-05 237(II)
Заместитель заведующего к.х.н. РУМЯНЦЕВ
Юрий Михайлович
57-71 316-51-44 233(II)
Материально-ответственная МОРЖУХИНА
Галина Михайловна
53-20 316-51-44 238(II)
  к.т.н. БОРИСОВ
Виктор Одиссеевич
57-40 330-94-10 235(II)
  ВОЛЧОК
Нина Дмитриевна
55-87 330-94-10 111(II)
  к.х.н. ДЁМИН
Виктор Николаевич
57-40 316-51-44 235(II)
  к.х.н. Ермакова
Евгения Николаевна
55-65, 57-71 316-51-44 210(II), 233(II)
  КИЧАЙ
Вадим Николаевич
55-87 330-94-10 111(II)
  к.х.н. ЛебедевМихаил Сергеевич 53-91 330-98-70 206 (II)
  к.х.н. МАКСИМОВСКИЙ
Евгений Анатольевич
59-80   204(II)
  МАСЛОВА
Ольга Владимировна
53-83 316-56-39 205(II)
  ПРОХОРОВА
Сталина Александровна
53-65 330-66-46 234(II)
  д.х.н. СМИРНОВА
Тамара Павловна
59-35 330-94-10 110(II)
  СУЛЯЕВА
Вероника Сергеевна
59-80 316-98-70 206(II)
  к.х.н. ФАЙНЕР
Надежда Ильинична
55-65, 57-71 316-51-44 210(II), 233(II)
  ЧАГИН
Максим Николаевич
55-65 316-51-44 210(II)
  к.ф.-м.н. Шаяпов
Владимир Равильевич
55-75 330-94-10 110a(II)
  ЮШИНАИрина Викторовна 55-75 330-94-10 110a(II)
  к.х.н. ЯКОВКИНА
Любовь Владимировна
55-87 330-94-10 111(II)
  аспирант МЕРЕНКОВ Иван Сергеевич 53-65 330-66-46 234(II)
  аспирант ПЛЕХАНОВ
Александр Георгиевич
57-71 316-51-44 233(II)
  аспирант ПУШКАРЕВ Роман Владимирович 53-65 330-66-46 234(II)


Фундаментальные научные задачи 

  • Создание новых процессов синтеза пленок функциональных материалов на основе изучения фундаментальных закономерностей – взаимосвязи химического, фазового состава, структуры, физических и функциональных характеристик слоев и многослойных структур. Изучение возможных областей применения этих материалов.
  • Физико-химические исследования газофазных процессов синтеза пленок.
  • Разработка физико-химических основ получения высокочистых веществ и микрооднородных кристаллов с заданной степенью структурного совершенства. 

Основные направления исследований

  • Изучение процессов разложения легколетучих соединений в газовой фазе:
    • Термодинамическое моделирование многокомпонентных систем, используемых в процессах осаждения из газовой фазы.
    • Изучение кинетических закономерностей и механизма роста тонких пленок (полупроводниковых и диэлектрических материалов, оптических, твердых, защитных покрытий), синтезированных термическим и плазмохимическим разложением легколетучих элементоорганических и комплексных соединений.
    • Исследование химического и фазового состава, микроморфологии, структуры тонких слоев, их связи с условиями синтеза и природой подложки. Изучение механизмов термической и химической стабильности, старения и деградации получаемых материалов.
    • Получение данных о зависимости функциональных характеристик (электрофизических, оптических, магнитных и механических) синтезируемых пленок от их химического строения, структуры, типов примесных и собственных дефектов
    • Использование оптических методов при изучении пленок диэлектриков, полупроводников и металлов с целью определения их строения.
    • Изучение возможности применения покрытий.
  • Физико-химические основы очистки металлов (Cd, Sb, Te, Zn, In, Se), используемых при синтезе термоэлектрических материалов, методом свободной кристаллизации расплава во вращающемся контейнере.

 

Прикладные задачи, решаемые и разрабатываемые лабораторией 

  1. Развитие процессов химического осаждения из газовой фазы (CVD) сложных объектов, в том числе материалов для наноэлектроники диэлектриков с высоким и низким значением диэлектрической константы.
  2. Синтез функциональных материалов в скоростных газовых потоках исходных веществ активацией плазмой мощного оптического пульсирующего разряда.
  3. Разработка методик исследования физико-химических свойств пленок оптическими методами.
  4. Создание более эффективных по сравнению с существующими технологиями получения сверхчистых веществ и термоэлектрических сплавов на основе метода вращающегося контейнера.

 

Научные и производственные связи, партнеры 

Лаборатория сотрудничает со многими российскими и зарубежными организациями:

  • Институт катализа им. Г.М. Борескова СО РАН
  • Институт химии твердого тела СО РАН
  • Институт автоматики и электрометрии СО РАН
  • Институт кристаллографии им. А.В.Шубникова РАН
  • Институт лазерной физики СО РАН
  • Институт общей и неорганической химии РАН
  • Институт химии силикатов РАН
  • Институт ядерной физики СО РАН
  • Институт физики полупроводников СО РАН
  • Иркутский институт химии СО РАН
  • Новосибирский государственный университет
  • Московский институт стали и сплавов
  • Технологический университет, г. Дармштадт, Германия
  • Университет Тохоку, Сендай, Япония
  • Институт физики КАН, Пекин, КНР
  • Институт полупроводников КАН, Пекин, КНР
  • Институт материаловедения и технологии г. Нингбо, КНР
  • Национальная физическая лаборатория, Дели, Индия и т.д.

 

Список уникального оборудования 

  • 5 установок для синтеза пленок методом PECVD  и CVD.
  • плазмохимическая установка для нанесения и исследования in situ диэлектрических покрытий сложного состава с ВЧ-индуктивной плазмой (13.56 МГц). Установка снабжена акустооптическим спектрометром «Кварц» и эллипсометром многоканальным ЕМ -70.
  • растровый электронный микроскоп JSM 6700F с приставкой EDS EX-23000 BU
  • растровый электронный микроскоп JSM T-200
  • универсальный оптический микроскоп NU-2 (2 шт.)
  • 4 установки для очистки материалов методом вращающегося контейнера
  • спектральный эллипсометр ЛЭФ-511 КАСЭК
  • лазерный эллипсометр фотометрический ЛЭФ-3
  • прибор для измерения кривизны образцов, определения КТР и модуля Юнга
  • установка вакуумного напыления металлов и сплавов. 

 

Видео

Тонкие пленки, которые нельзя увидеть! Большая Научная Экскурсия