В программу семинара включены следующие темы:
- Фундаментальные основы процессов CVD (химия газовой фазы и поверхности, механизмы реакций, кинетика, моделирование, взаимосвязь структуры и свойств).
- Новые исходные вещества для процессов CVD: синтез, очистка и характеризация.
- Новые направления в развитии технологии CVD (активированные процессы, плазмо-стимулированные, ALD, гибридные технологии и др.)
- Новые материалы и сложные структуры, полученные в процессах CVD (однородные и градиентные слои, структуры различной архитектуры: нанотрубы, нанонити, нанокомпозиты, наночастицы и квантовые точки).
- Диагностика и контроль процессов CVD (контроль процессов превращений компонентов газовой фазы, состояние образующихся фаз, функциональные характеристики слоев и структур).
- CVD: путь от лаборатории к промышленной технологии.
- Применение процессов CVD (микро, нано- и оптоэлектроника, химические сенсоры, катализ, производство энергии, оптические и защитные покрытия и др.)
 |
Программа второго семинара по проблемам химического осаждения из газовой фазы (pdf-файл, 140 Кб) |
