Инструкция для оплаты организационного взноса для юридических лиц

Договор и Акт для для юридических лиц

По вопросам относительно оплаты организационных взносов обращайтесь в ООО «СибКонгресс» к Федоровой Елене Владимировне на Адрес электронной почты защищен от спам-ботов. Для просмотра адреса в вашем браузере должен быть включен Javascript..
Обязательно при обращении указывать тему письма «Оплата ALD-Russia-2026».

Инструкция для оплаты организационного взноса для физических лиц

Договор и Акт для физических лиц

Согласие на обработку и распространение персональных данных

По вопросам относительно оплаты организационных взносов обращайтесь в ООО «СибКонгресс» к Федоровой Елене Владимировне на Адрес электронной почты защищен от спам-ботов. Для просмотра адреса в вашем браузере должен быть включен Javascript..
Обязательно при обращении указывать тему письма «Оплата ALD-Russia-2026».

Организационный взнос
Крайний срок оплаты 05 августа 2026
Для исследователей, работающих в странах СНГ
Стандартный взнос 10000 руб.
Для аспирантов и молодых ученых* 5000 руб.
Для студентов ВУЗов 3000 руб.
Для исследователей, работающих в других странах
Стандартный взнос 300 евро
Информация по оплате организационного взноса
Для физических лиц
Для юридических лиц
* до 35 лет включительно

К.А. Брылев, д.х.н., проф. РАН, Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия (со-председатель)

А.А. Малыгин, д.х.н., проф., Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет), Санкт-Петербург, Россия (со-председатель)

Е.С. Викулова, к.х.н., Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия (учёный секретарь)

М.С. Лебедев, к.х.н., Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия (учёный секретарь)

В.Ю. Васильев, д.х.н., проф., Новосибирский государственный технический университет, Новосибирск, Россия

А.М. Маркеев, д.т.н., Московский физико-технический институт (национальный исследовательский университет), Долгопрудный, Россия

К.В. Руденко, д.ф.-м.н., Физико-технологический институт имени К.А. Валиева, РАН, Москва, Россия

И.М. Абдулагатов, д.ф.-м.н., Дагестанский государственный университет, г. Махачкала, Россия

В.А. Быков, д.т.н., проф., ООО «НТ-МДТ Спектрум Инструментс», Зеленоград, Россия

В.А. Гриценко, д.ф.-м.н., Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия

А.С. Гудовских, д.ф.-м.н., Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алферова РАН, Санкт-Петербург, Россия

И.К. Игуменов, д.х.н., Институт неорганической химии им. А.В. Николаева СО РАН, Новосибирск, Россия

Д.Р. Исламов, к.ф.-м.н., Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия

Г.В. Лисичкин, д.х.н., проф., Московский государственный университет, Москва, Россия



Ю.С. Кольцов, к.х.н., Специальное конструкторско-технологическое бюро Кольцова, Санкт-Петербург, Россия

М.Ю. Максимов, д.т.н., доц., Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия

А.А. Малков, к.х.н., доц., Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет), Санкт-Петербург, Россия

Д.В. Назаров, к.х.н., Санкт-Петербургский государственный университет, г. Санкт-Петербург, Россия

А.А. Резванов, к.ф.-м.н., Научно-исследовательский институт молекулярной электроники, г. Зеленоград, Москва, Россия

А.А. Рычков, д.ф.-м.н., проф., Российский государственный педагогический университет им. А. И. Герцена, Санкт-Петербург, Россия

В.И. Сачков, д.х.н., доц., Томский государственный университет, Инжиниринговый центр технологий высокочистых веществ и материалов для микроэлектроники, Томск, Россия

В.А. Селезнёв, к.ф.-м.н., Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, Новосибирск, Россия

Е.А. Соснов, к.х.н., доц., Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет), Санкт-Петербург, Россия

Е.В. Фёдорова, директор ООО "СибКонгресс"

 

Международный Организационный комитет

A.I. Abdulagatov, Ph.D., University of Colorado Boulder, Denver, United States

M. Knez, Ph. D., Prof., CIC nanoGUNE, San Sebastián, Spain

Rong Chen, Ph.D., Prof., Huazhong University of Science and Technology, China

G.N. Parsons, Ph. D., Prof., North Carolina State University, Raleigh, United States